国内高纯气体应用现状

第２８卷第３期

２０１０年６月

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２８。Ｎｏ．３

ＪｌｌＩＬ。２０１０

国内高纯气体应用现状

牛丽红，于世林

（北京化工大学北方学院，北京东燕郊迎宾北路４５号１０１６０１）

摘要：阐述了我国高纯气体应用现状，强调了在电子工业生产中，特种高纯气体在大规模集成电路、液晶显示器、多晶硅和薄膜太阳能电池、新型电光源、光电半导体器件、光纤通讯器件中的应用；在化学测量质量保证中，校准测量体系，评价分析方法的可靠性，检测分析仪器性能，实验室问检测能力比对中的应用；在工业生产中，在单项测量仪器或在线流程分析仪器中作为“零点气”的应用。关键词：高纯气体；电子工业；质量保证；“零点”气体中图分类号：ＴＱｌｌ７

文献标识码：Ａ

文章编号：１０ｃｒ７－７８０４（２０１０）０３—０００７—０４

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高纯气体在电子工业生产中的应用

进入２０世纪９０年代以后，随着我国高新技术

高纯电子气的纯度也需达到５—６Ｎ（９９．９９９％一

９９．９９９９％），才能保证制造出高质量的电子器件。至今我国在制备各种高纯电子气方面仍有一定的难

度，原因如下：

（１）用于高纯气体质量检测的分析设备相对落后，国产分析检测设备灵敏度低、稳定性差；购

的快速发展，计算机工业对大规模集成电路的需

求，对液晶显示器的需求大量增加；随着新型能源的发展，我国大力开拓了多晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池的生产；此外，新型电光源、光电半导体器件（ＧａＡｓ，ＩＩｌＰ，ＡｌＧａＡｓ）、光纤通讯器件也

置进口检测设备，价格昂贵，掌握先进分析检测技术的操作人员数量偏少；不少生产高纯气体的厂商仅重视工业生产流程设备的配置，不够重视质量检测仪器的配置，也不够重视分析检测人员素质的培

养和提高。

获得迅猛发展，在上述高新产品的生产中，都需要大量高纯气体，以制造出性能可靠的各种器件。

在上述电子器件制作中，使用的硅片或熔融石英的纯度达７Ｎ（９９．９９９９９％），生产中使用的各种

收稿日期：２０１０—０４ｍ８

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