溅射靶材的种类_应用_制备及发展趋势

:随着电子及信息产业突飞猛进的发展,世界溅射靶材的需求量越来越大。文章介绍了溅射 靶材的种类、应用及制备情况。并对靶材的发展趋势作了探讨

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湖南有色金属

HUNANNONFERROUSMETALS

第22卷第4期2006年8月

溅射靶材的种类、应用、制备及发展趋势

陈建军,杨庆山,贺丰收

(湖南稀土金属材料研究院,湖南长沙　410014)

摘　要:随着电子及信息产业突飞猛进的发展,世界溅射靶材的需求量越来越大。文章介绍了溅射靶材的种类、应用及制备情况。并对靶材的发展趋势作了探讨。关键词:溅射;靶材;种类;应用;制备;发展趋势

中图分类号:TG14　　文献标识码:A　　文章编号:1003-5540(2006)04-0038-04

　　溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用

离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,并沉积在基底表面,薄膜的原材料,路、记录介质、得到了广泛的应用,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年来我国电子信息产业飞速发展,集成电路、光盘及显示器生产线均有大量合资或独资企业出现,我国已逐渐成为了世界上薄膜靶材的最大需求地区之一。但迄今为止,中国仍没有专门生产靶材的专业大公司,大量靶材仍从国外进口。由于国内靶材产业的滞后发展,目前中国靶材市场很大部分被国外公司占领;随着微电子等高科技产业的高速发展,中国的靶材市场将日益扩大,为中国靶材制造业的发展提供了机遇和挑战。

可分为氧化物、硅化物、,、记超导陶瓷靶材和巨(2);溅射靶材按应用领域分、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材(见表3)

表1　溅射靶材按化学组成分类

分　　类纯金属合金陶瓷化合物

组　　成

Al、Au、Cr、Co、Ni、Cu、Mo、Ti、Ta…Ni-Cr、Co—Ni、Co—Cr、Tb—Fe—Co、

Gd—Fe—Co、Mo—W、Cr—Si…

氧化物、硅化物、碳化物、硫化物…

2　溅射靶材的应用

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成

电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。211　信息存储产业

随着IT产业的不断发展,世界对记录介质的需求量越来越大,记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘等。制造这些数据存储产品,需要使用具有特殊结晶性与特殊成分的高品质靶材,常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀有金属、介质材料等。212　集成电路产业

1　溅射靶材的种类

溅射靶材的种类相当多,即使相同材质的靶材

又有不同的规格。靶材的分类有不同的方法,根据形状分为长靶,如ITO靶材(1400×900×6已焊接)、方靶如ITO靶材(300×300厚度可按用户的要求)、圆靶如Fe63Dy29Tb8靶(Φ75×10)、Fe54Tb46(Φ75×10);根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材(见表1),陶瓷化合物靶材根据化学组成不同

作者简介:陈建军(1951-),男,高级工程师,主要从事企业管理与稀

土新材料研究开发工作。

集成电路用靶材在全球靶材市场占较大份额,其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等。其

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